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天津金相磨拋機進行精細拋光需要做的內(nèi)容

  • 作者:微儀管理員
  • 發(fā)布時間:2023-10-09
  • 點擊:127

天津金相磨拋機操作的核心思想是獲得Z大的拋光速率,以便在耕種過程中發(fā)生一層拋光,以盡快消除損壞。 而且,拋光層不影響Z終檢查的損壞結(jié)構(gòu),并且不會導致錯誤的構(gòu)造。 這兩個要求是矛盾的。 前者需要使用粗磨,以確保往復移動去除拋光損傷層的速度更快,并拋光更深的損傷層。 后者需要使用Z好的材料,拋光的受損層較淺,但磨削速度較低。 Z好的方法是分兩個階段進行應用,即相互矛盾的拋光。

磨拋機.jpg

天津金相磨拋機應使拋光損傷層不影響Z終觀察到的組織,即不會造成假組織。 前者需要使用較粗糙的磨料以確保更高的拋光速率,以去除拋光損傷層,但拋光損傷層也更深。 后者需要使用Z優(yōu)質(zhì)的材料,因此拋光損傷層較淺,但拋光率較低。 解決這一矛盾的很好的方法是將拋光分為兩個階段。 粗拋光的目的是去除拋光的損傷層。 該階段應具有Z大的拋光速率。 次要考慮的是由粗糙拋光引起的表面損傷,但應盡可能小。 D二種是精細拋光(或Z終拋光)。 其目的是消除由粗糙拋光引起的表面損傷,并使拋光損傷Z小化。

先是粗拋光,目的是去除拋光損傷層,該階段應具有Z大的拋光速率。 D二個想法是在粗糙的拋光表面上形成損傷。 就是這樣,也許它應該很??; 然后進行精細研磨(或Z終研磨),其目的是消除發(fā)生粗研磨時的表面損傷,并使研磨損傷Z小化。 拋光時,應將經(jīng)過研磨和拋光的樣品平行并均勻地壓在拋光盤上,由于壓力太大和出現(xiàn)新的磨損痕跡,請仔細地準備樣品和繁殖蠅。

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